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GB／T 40300-2021 微束分析 分析电子显微学 术语.pdf简介：

GB/T 40300-2021《微束分析 分析电子显微学 术语简介》是中国国家标准，该标准定义了一系列用于描述和解释微束分析（Microbeam Analysis）和电子显微学（Electron Microscopy）领域的专业术语。微束分析是一种利用高能粒子束（如电子束）在微观尺度上进行分析的技术，它在材料科学、生物学、物理化学等多个领域有着广泛应用。电子显微学则是一种利用电子束来观察和分析物质微观结构的显微技术，包括透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）等。

在这份标准中，可能会包括术语如：

1. 微束分析：使用高能电子束对样品进行分析，以获取材料的结构、成分、性能等信息。 2. 电子显微镜：利用电子束作为照明源，通过透射或扫描方式观察样品的显微结构。 3. 透射电子显微镜（TEM）：样品置于电子束路径中，电子束通过样品并形成图像。 4. 扫描电子显微镜（SEM）：样品被电子束照射，通过收集散射电子形成图像。 5. 电子能量损失谱（EELS）：利用电子束在样品中产生的能量损失来研究样品的化学成分和结构。 6. 电子衍射：电子束在晶体样品上产生的衍射现象，用于结构分析。 7. 立体电镜（STEM）：结合了电子束的高分辨率和波束成像能力，用于获取样品的三维图像。

这份标准对于从事微束分析和电子显微学研究的人员，以及相关设备制造商和技术服务提供者具有重要的参考价值。

GB／T 40300-2021 微束分析 分析电子显微学 术语.pdf部分内容预览：

分析电子显微学（AEM)是应用透射电子显微术（TEM)和扫描透射电子显微术（STEM)对固态物 质微小体积的晶体结构、元素组成和电子态进行定性、定量测定的技术及其相关理论。AEM分析以电 子激发X射线能谱和电子能量损失谱（EELS)的物理机制为基础、并通过微衍射提供微区的结构信息， 同时具有高分辨成像能力。 作为微束分析（MBA)的一个主要分领域，AEM广泛应用于各行各业（高技术工业、基础工业、冶 金、地质、生物和医学、环境保护、贸易等），而且具有广泛的业务环境进行标准化。 一个技术领域的术语标准化是制定该领域其他方面标准的先决条件。 本文件对于需要用AEM词汇的国际科学和工程群体具有重要意义，这些词汇包含MBA与TEM 和STEM相结合的实践中所应用术语的统一定义。 本文件是ISO/TC202（微束分析）研制的一系列标准之一，这些标准包含扫描电子显微术术语 ISO22493）、电子探针显微分析术语（ISO23833）和能谱法定量分析（ISO22309）等。其中有的已经发 布，有的仍在研制中，以便完全覆盖MBA领域

政束分析分析电子显微学术评

TB10402-2019铁路建设工程监理规范本文件没有规范性引用文件。

GB/T 403002021

4分析电子显微学物理基础术语

4分析电子显微学物理基础术语

电子光学electronoptics 关于电子通过静电场和/或电磁场运动轨迹的科学。 [来源：ISO22493，有修改］ 4.1.1 电子源electronsource 电子光学系统中形成电子束所需的电子发射装置。 4.1.1.1 能量扩展energyspread 人射束电子的能量散布。 [来源：ISO22493，有修改］ 4.1.1.2 有效源尺寸effectivesourcesize 通常在电子束交叉截面（会聚点）处测量的电子光源有效尺度。 [来源：ISO22493，有修改］ 4.1.2 电子发射electronemission 在一定的激发条件下，电子从材料表面射出。 [来源：ISO22493:2008，3.1.2］ 4.1.2.1 热电子发射 thermionic emission 依靠高温和外加电场使阴极中的电子克服功函数势垒而逸出到真空的电子发射。 ［来源：ISO22493，有修改］ 4.1.2.2 场发射fieldemission 材料表面及近表面的强电场导致的电子发射。 ［来源：ISO22493，有修改］ 4.1.2.2.1 冷场发射coldfieldemission 在室温下，完全靠施加电场从阴极获取电子的场发射。 [来源：ISO22493，有修改］ 4.1.2.2.2 热场发射 fthermal field emission 由高压电场和高温导致的阴极尖端电子发射。 [来源：ISO22493，有修改］ 4.1.3 电子透镜 electronlens 电子光学系统中利用静电场和/或电磁场使电子改变路径的基本组件。

GB/T 403002021

5分析电子显微镜仪器术语

抽取电极extractingelec

施加静电势以从电子源获取电子的电极

GB/T403002021

而不是理想像点的现象

聚光镜系统中固定式或可移动光阑，用以选择电子束的某一部分，从而控制试样的照明面积和入射 电子束剂量，还可限定电子束的会聚角

意光闯objectiveapertu

成像系统中最后一级透镜，用于放大中间镜的像并将最终像形成在图像记录装置上。

GB/T40300—2021

湘机常数cameraconstant

导电覆层conductivecoating 为了在电子显微镜观察中减轻荷电问题而在非导电试样表面涂覆的碳或金属导电薄层， 6.11 复型replica 在样品表面生成塑性膜或碳膜并将其剥离下来，从而获得样品表面浮凸的复制品。 6.12 萃取复型extractionreplica 在含有析出物或夹杂物的样品表面生成塑性膜或碳膜并将其剥离下来，这种复型薄膜中固定有试 样所含析出物或夹杂物

导电覆层conductivecoating 为了在电子显微镜观察中减轻荷电问题而在非导电试样表面涂覆的碳或金属导电薄层， 6.11 复型replica 在样品表面生成塑性膜或碳膜并将其剥离下来，从而获得样品表面浮凸的复制品。 6.12 萃取复型extractionreplica 在含有析出物或夹杂物的样品表面生成塑性膜或碳膜并将其剥离下来，这种复型薄膜中固定有试 样所含析出物或夹杂物

7分析电子显微术成像和像处理术语

双应 样品特征的周期性与形成扫描图像的像点格栅的周期性叠加，或由于晶体结构取向不同或晶 同的干涉图样叠加，而形成莫尔条纹的现象

DB12／T 127-2018标准下载GB/T403002021

8分析电子显微术像诠释和分析术

GB/T 403002021

ZAF校正法ZAFcorrectionmethod

X定量分析的校正方法，对试样发射特征X射线的原子序数、吸收和荧光效应的影响都进行了 在TEM/EDS的薄膜试样分析中GB 51208-2016 人工制气厂站设计规范，这些影响非常小

能量过滤器energyfilte

让特定动能电子通过的装置，这对于在图像及衍射花样中扣除非弹性散射电子背底很有效，还可 于获取能量过滤图像以进行分析