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JCT 2068-2011 镀膜玻璃生产规程.pdf简介：
JCT 2068-2011 是英国建筑和工程研究中心（British Standards Institution, BSI）发布的一项关于镀膜玻璃的生产标准。这个标准详细规定了镀膜玻璃的生产过程、性能要求、检验方法以及质量控制措施。它涵盖了镀膜玻璃的各个方面，包括镀膜材料、镀膜工艺、膜层结构、光学性能（如透光率、反射率、紫外线防护等）、机械性能（如抗冲击、抗压等）以及环保性能等。
以下是一些关键要点：
1. 材料：规定了镀膜玻璃所使用的材料必须符合特定的化学和物理性能要求，如基材玻璃、金属镀层材料等。
2. 生产过程：规定了镀膜的工艺流程，包括清洁、镀膜、退火等步骤，以及对生产环境和设备的要求。
3. 性能指标：对镀膜玻璃的光学性能、热性能、抗紫外线性能等进行了详细规定，确保产品的功能性和耐用性。
4. 检验与测试：规定了产品的各项检测方法，包括实验室测试和现场检测，以确保产品的质量和一致性。
5. 质量控制：强调了从原材料到成品的全程质量控制，包括原材料的检验、生产过程的监控、成品的质量检测等。
JCT 2068-2011 为镀膜玻璃的生产和质量控制提供了一个重要的行业标准，帮助制造商确保其产品符合国际和行业的高标准，同时也有助于提高消费者对镀膜玻璃性能和安全性的认知。
JCT 2068-2011 镀膜玻璃生产规程.pdf部分内容预览：
工艺气体processgas 磁控溅射过程中用于产生等离子体或发生特定化学反应的一种或儿种气体。化学气相沉 膜前驱体气体、反应气体及载体气体的总称
膜前驱体气体、及应气体及载体（体的总标。 3.6 镀膜反应器coatingreactor 在化学气相沉积镀膜过程中，将工艺气体喷射到基体表面的特定装置。 3.7 阴极cathode 在磁控溅射镀膜工艺中，承载靶材实现磁控溅射的装置。装置内包括磁性材料、冷却装置、屏蔽装 置等。
2013甬SS-01 宁波市蒸压加气砼砌块应用技术实施细则4.1 按产品性能分为阳光控制镀膜玻璃和低辐射镀膜玻璃。 4.2 2按生产工艺分为离线磁控溅射镀膜和在线化学气相沉积镀膜。
5.1磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料
磁控溅射镀膜玻璃可选用平板玻璃、防火玻璃、钢化玻璃、夹层玻璃、半钢化玻璃、压花玻璃 法玻璃等作为基体材料
磁控溅射镀膜工艺常用靶材可参见附录A。
工艺气体包括高纯度的氩气、氮气、氧气等。
5.2化学气相沉积镀膜玻璃材料
化学气相沉积镀膜玻璃生产所用材料包括玻璃、镀膜前驱体、工艺气体等。各种材料均应符合 家标准或行业标准的要求，尚无相应标准的材料应符合设计要求。材料应有合格证，进口材料应 正明。
化学气相沉积镀膜工艺常用的镀膜前驱体可参见
6.1.1镀膜玻璃生产企业应具备满足生产要求的设备，并定期进行维护保养。 6.1.2镀膜玻璃生产企业应具备必要的量具和检测设备，并定期进行计量检定。应具备的膜层检测设 备有在线分光光度计、离线分光光度计、耐磨试验机和方块电阻测量仪。宜具备辐射率测定仪、红外分 光光度计、雾度仪、台阶仪、椭偏仪等。 6.1.3从事镀膜玻璃生产的作业人员，应具备相应的专业技能并经过安全操作培训，持证上岗。 6.1.4镀膜玻璃的生产应具备工艺操作规程、作业指导书、安全操作规程、应急方案等。 6.1.5磁控溅射镀膜的基片宜选用近期生产的玻璃，必要时应进行抛光处理。 6.1.6磁控溅射镀膜玻璃生产应具备上下片台、清洗机、磁控溅射装置、生产监控、在线检测、循环 冷却水系统、水处理系统等装置。 6.1.7磁控溅射镀膜工艺室的基础真空度宜优于5×10Pa。 6.1.8镀膜面宜为玻璃的非锡面。 6.1.9清洗用去离子水电阻宜大于5MQ。
6.2.1生产工艺流程
生产前应进行如下检查： a） 清洗用去离子水的电阻： b） 镀膜工艺室的真空度； C） 靶材配置； d) 工艺气体的种类、纯度、压力； e） 冷却系统的工作状态：
图1磁控溅射镀膜玻璃生产工艺流程图
[） 自动上、下片台装置和清洗机的工作状态： g 生产监控装置、在线检测装置的工作状态； h） 磁控溅射阴极的工作状态。
应对玻璃的外观质量、尺寸、厚度、锡面朝向
清洗机的水温宜在35℃～45℃之间，最后一道清洗水应使用去离子水，清洗后的玻璃表面无 角、水渍或残留水珠等缺陷，同时清洗玻璃的干燥风应经过滤处理，保证玻璃清洗后洁净、干燥
根据标样设置适当的工艺参数，并进行生产试制，当试样符合以下各项指标时方可连续生产： a）可见光透射比、可见光反射比、颜色值、颜色均匀性符合产品要求； b） 低辐射镀膜玻璃的辐射率符合产品要求； cC) 耐磨性能符合产品要求； d) 可热加工的磁控溅射镀膜玻璃应进行热加工性能评估，热加工后满足可见光透射比、可见光反 射比、颜色、颜色均匀性、辐射率、耐洗刷性等要求。 注：中空玻璃用材料包括玻璃、间隔材料、密封材料、于燥剂等，各种材料均应符合相应国家标准或行业标准的要 求，尚无相应标准的材料应符合设计亚求。材料应有合格证，进口材料应有相关证明。
6.2.6生产过程监控
6.2.6.1应对工艺气体进行监控并保持稳定。 6.2.6.2应监控镀膜玻璃可见光透射比、可见光反射比、颜色、颜色均匀性、辐射率的检测值， 6.2.6.3应监控阴极的工作电压、电流、功率值。 6.2.6.4应观察阴极辉光处于稳定状态，出现异常应及时进行调整。 6.2.6.5应监控玻璃的传送过程处于稳定状态。 6.2.6.6应对产品按一定频次进行离线抽检。
为检查阳光控制镀膜玻璃外观质景，官进行后
6.3在线化学气相沉积镀膜玻璃的制作
6.3.1生产工艺流程
JC/T 2068—2011
非产企业应具备浮法玻璃生产线、镀膜系统及产品质量检测设备。
6.3.4生产准备工作
生产应进行如下准备工作： 日 浮法玻璃原片质量应达到镀膜工艺要求； 2 2 清理镀膜反应器、工艺管道等； C) 调整玻璃原板宽度、温度、拉引速度、气氛、退火工艺参数： d) 启动工艺气体配送装置，工艺气体指标达到镀膜要求； e) 启动镀膜系统冷却装置； 2 启动工艺气体、镀膜前驱体、气幕保护气加热装置； g) 启动废气处理装置； h) 将镀膜反应器置工镀膜区工艺位置
图2在线化学气相沉积镀膜玻璃生产工艺流程图
6.3.5.1将镀膜工艺气体导入镀膜反应器。 6.3.5.2连续镀膜开始后按照一定规则取样并测试，测试数据与标样参数对比。不符合要求时，应重 新调整工艺参数，直到符合要求方可作为合格产品生产。 6.3.5.3镀膜所产生废气要进行无害化处理，达到国家环保要求
6.3.6生产过程监控
6.3.6.1生产过程中要对镀膜工艺参数、锡槽工艺参数、退火工艺参数进行实时监控并做适当调整。 6.3.6.2镀膜期间要周期性对镀膜反应器进行清扫。 6.3.6.3对镀膜玻璃各项性能进行检测：
a) 颜色均匀性检测：
a) 颜色均匀性检测：
b）低辐射镀膜玻璃辐射率检测或方块电阻检测： c） 可见光透射比检测； d） 耐酸性、耐碱性、耐磨性检测。 6.3.6.4对镀膜玻璃外观质量进行监控。
6.3.7镀膜生产停止
6.3.7.1停止镀膜系统，退出镀膜反应器。
镀膜玻璃的成品检验依照GB/T18915.1、GB/T18915.2的规定执行
8.1.1应符合GB/T18915.1、GB/T18915.2、JC/T 513、GB/T6382.1和IGB/T6382.2的规定。 8.1.2包装内宜附带有该种产品的简要加工指导及使用说明书等。 8.1.3磁控溅射阳光控制镀膜玻璃其镀膜面宜采用隔离粉、静电保护膜、珍珠棉等进行保护。 8.1.4磁控溅射低辐射镀膜玻璃其镀膜面应采用静电保护膜或隔离粉等进行保护。每箱低辐射镀膜玻 璃应采用塑料膜进行密封保护，塑料包装内应填充足量的干燥剂，必要时还可填充性气体进行保护 8.1.5在线化学气相沉积镀膜玻璃其镀膜面宜采用隔离粉、防霉纸、防霉液、珍珠棉等进行保扩。 8.1.6保护膜、干燥剂、隔离粉等保护材料在使用前应进行性能评估，保证其不对膜面产生损伤。
8.2标志、运输和贮存
应符合GB/T18915.1、GB/T18915.2的规定
附录A （资料性附录） 磁控溅射镀膜玻璃
常用磁控溅射镀膜玻璃靶材包括钛（Ti）靶、不锈钢（SST）靶、银（Ag）靶、锌铝（ZnA12）靶、氧化钛（ 硅铝（SiA1）靶、锌锡（ZnSn50)靶、锡（Sn）靶、锯（Nb）靶、氧化锌铝（ZAO)靶、铬（Cr）靶、镍铬（N 管，材质要求见表A.1。
靶材外形分为圆靶和平靶两种，靶材的尺寸及其允许偏差应符合客户图纸和设计图纸的要求。
JC/T2068—2011
B.1单丁基三氯化锡（MBTC）
是一种有机锡卤化物的混配物，用于形成Sn0.膜层，常温下为无色或淡黄色酸性液体，具有腐蚀 质量要求：有机锡卤化物的混配物≥95wt%，挥发性有机物≤5wt%
JC∕T 884-2016 金属板用建筑密封胶B.2掺锑单丁基三氯化锡（MBTC:Sb）
是 一种掺锑有机锡卤化物的混配物，用于形成锑掺杂Sn0膜层，常温下为无色或淡黄色酸性液 强腐蚀性。 质量要求：锑掺杂有机锡卤化物的混配物≥99wt%。
B.3二甲基二氯化锡（DMTC
B.4三氟乙酸(TFA)
模层进行掺杂，常温下为无色酸性液体，具有强 求：主要成分三氟乙酸≥99.9wt%
用来形成锡硅氧化物膜层，常温下为无色液体。 质量要求：主要成分硅酸四乙酯≥99wt%
用于形成非晶硅膜层和碳硅氧膜层，常温下是气体，遇空气自燃。 质量要求：主要成分硅烷≥99.999%
用于形成碳硅氧膜层，常温下是气体城市地下综合管廊建设的概况与案例介绍.pdf，易燃。 质量要求：主要成分乙烯≥99.99%。
用于形成碳硅氧膜层，常温下是气体，易燃。 质量要求：主要成分乙烯≥99.99%。